[发明专利]一种硅片拾取装置在审
申请号: | 201610766710.4 | 申请日: | 2016-08-30 |
公开(公告)号: | CN107785299A | 公开(公告)日: | 2018-03-09 |
发明(设计)人: | 田翠侠;阮冬;杨金国 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 屈蘅,李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种硅片拾取装置,包括片叉本体以及设置于所述片叉本体上的气路通道和调节机构;所述调节机构用于将硅片调整到片叉本体的拾取中心位置;片叉本体上设置有气孔,用于产生具有一定流向的气流,气路通道与气孔连通;在拾取硅片过程中,气路通道内通入的气体流经气孔形成具有一定流向的气流,以使硅片与片叉本体之间的气压小于外界大气压硅片在气压差的作用下压在片叉本体上,并在调节机构的配合下调整到片叉本体的拾取中心位置,完成拾取工作。在拾取过程中,不必要在硅片和片叉本体之间形成真空,所以可以有效吸附翘曲变形的硅片;另一方面,在拾取时硅片与片叉本体非直接接触,吸附力更均匀,从而减小了对较薄硅片的损坏。 | ||
搜索关键词: | 一种 硅片 拾取 装置 | ||
【主权项】:
一种硅片拾取装置,其特征在于,包括片叉本体以及设置于所述片叉本体上的气路通道和调节机构;所述调节机构用于将硅片调整到所述片叉本体的拾取中心位置;所述片叉本体上设置有气孔,用于产生具有一定流向的气流,所述气路通道与所述气孔连通;在拾取硅片过程中,所述气路通道内通入的气体流经所述气孔形成具有一定流向的气流,以使所述硅片与所述片叉本体之间的气压小于外界大气压,所述硅片在气压差的作用下压在所述片叉本体上,并在所述调节机构的配合下调整到所述片叉本体的拾取中心位置,完成拾取工作。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司,未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610766710.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种压缩机制冷系统以及集成有冰箱的饮水机
- 下一篇:一种应急备用交通信号灯
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造