[发明专利]具有旋转反应器管的等离子体增强型原子层沉积系统

摘要

本发明揭示具有旋转反应器管的等离子体增强型原子层沉积系统，以及用于使用PE‑ALD及旋转反应器管涂布粒子的系统及方法。该反应器管为反应器管组件的部分，该反应器管组件可旋转及轴向移动使得其相对于等离子体产生装置可操作地安置。该等离子体产生装置具有自前驱气体产生等离子体的活动状态及传送该前驱气体而不形成等离子体的非活动状态。该反应器管驻留在腔室中，该腔室具有用于接近该反应器管的开放位置及支撑真空的关闭位置。该等离子体产生装置的输出端紧邻该反应器管的输入区段或在该反应器管的输入区段内驻留。此构造避免对于该等离子体产生装置的邻近该反应器管的外表面驻留的活动部分的需求。

主权项

一种用于使用至少第一前驱气体及第二前驱气体执行粒子的等离子体增强原子层沉积(PE‑ALD)的系统，其包括：一腔室，其具有界定一腔室内部的顶部区段及底部区段，该腔室构造成使得该顶部区段及该底部区段具有提供到该腔室内部的通路的一开放位置及其中该腔室内部保持真空的一关闭位置；一反应器管组件，其相对于该腔室可操作地设置，该反应器管组件包括一反应器管，该反应器管驻留于该腔室内部内且具有一中心轴线、一外表面、一内部、一输入区段、含有所述粒子的一中心区段及包括在该外表面中的至少一个孔隙的一输出区段，该反应器管组件构造成用以绕该中心轴线旋转该反应器管；一气体供应系统，其包括至少第一前驱气体及第二前驱气体；一等离子体产生装置，其沿着反应器管的该中心轴线布置在该腔室内部内且邻近该反应器管的该输入区段或至少部分在该反应器管的该输入区段内，该等离子体产生装置具有活动及非活动操作状态，且可操作地连接至该气体供应系统，且构造成用以接收该第一前驱气体及该第二前驱气体中的至少一者，且当在该活动状态中时，自其形成至少一个对应的等离子体，该等离子体自其输出且经由该输入区段至该反应器管的该内部中；及一真空系统，其在该关闭位置中在该腔室内部中形成该真空，藉此在反应器管的该内部中形成该真空，该真空使该等离子体流经该反应器管的该内部且与其中的所述粒子反应。