[发明专利]显示高阻尼锰基铜合金晶粒边界的腐蚀剂及其腐蚀方法在审
申请号: | 201610768856.2 | 申请日: | 2016-08-30 |
公开(公告)号: | CN106404502A | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 梁会雷;吴建华;李平平;潘安霞;陈凯敏;王群;刘德华 | 申请(专利权)人: | 中车戚墅堰机车车辆工艺研究所有限公司 |
主分类号: | G01N1/32 | 分类号: | G01N1/32 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所(普通合伙)32211 | 代理人: | 贾海芬 |
地址: | 213011 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种显示高阻尼锰基铜合金晶粒边界的腐蚀方法,对Mn>70%和Cu>20%的高阻尼锰基铜合金进行金相腐蚀,按常规方法制得试样;将饱和苦味酸溶液与5%~15%硝酸酒精溶液按体积分数比10.8~1.1.2充分混合,常温放置至少10min;将试样的抛光面朝上并置入腐蚀剂中,经过至少4min腐蚀后,取出腐蚀后的高阻尼锰基铜合金试样用流水冲洗并用酒精清洗吹干,浸蚀完成晶界显示;在显微镜下以100倍观察并得到晶粒显示照片,并采用对比法或网格法或截点法进行晶粒判断。本发明腐蚀剂能腐蚀出清晰的晶粒度,避免腐蚀基体组织,解决了晶界与孪晶同时出现的问题,操作简单,判断准确性、精确性更高,使用安全。 | ||
搜索关键词: | 显示 阻尼 铜合金 晶粒 边界 腐蚀剂 及其 腐蚀 方法 | ||
【主权项】:
一种显示高阻尼锰基铜合金晶粒边界的腐蚀剂,其特征在于:包括饱和苦味酸溶液和体积分数为5%~15%的硝酸酒精溶液,且饱和苦味酸溶液与硝酸酒精溶液按体积分数比为1:0.8~1.2。
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