[发明专利]微凸块接合装置有效
申请号: | 201610769934.0 | 申请日: | 2010-11-10 |
公开(公告)号: | CN106158781B | 公开(公告)日: | 2019-02-22 |
发明(设计)人: | 沈文维;陈承先;郭正铮;陈明发;王荣德 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L25/065;H01L23/488;H01L21/48;H01L21/60 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 张浴月;石海霞 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种微凸块接合装置,包括一工件,其包括一金属凸块;以及一介电层,其具有位于上述金属凸块正上方的一部分。上述金属凸块和上述介电层的上述部分的一表面形成一介面。一金属表面处理物形成于上述金属凸块的上方且接触上述金属凸块。上述金属表面处理物从上述介电层的上方延伸上述介面的下方。通过本发明实施例的接合结构,可强化现有技术的弱点,且可改善接合结构的可靠度。 | ||
搜索关键词: | 微凸块 接合 装置 | ||
【主权项】:
1.一种微凸块接合装置,包括:第一工件,包括:基板;金属凸块,位于该基板上方,其中该金属凸块包括上表面及侧壁,且该金属凸块包括焊球下金属层和位于该焊球下金属层上的金属层;介电层,位于该基板上方,其中该介电层包括第一部分及侧壁部分,该第一部分局部覆盖该金属凸块的该上表面,该侧壁部分顺应地覆盖该金属凸块的该侧壁;以及金属表面处理物,从该介电层的该第一部分的上表面连续地延伸至该金属凸块内,且更连续地延伸至该介电层的该第一部分的下表面下方。
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