[发明专利]一种折射率连续渐变的光学薄膜制备方法在审

专利信息
申请号: 201610770888.6 申请日: 2016-08-30
公开(公告)号: CN106435508A 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 陈亮;李俊贤;吕奇孟;吴奇隆;陈凯轩;张永 申请(专利权)人: 厦门乾照光电股份有限公司
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54;C23C14/50;G02B1/10
代理公司: 厦门市新华专利商标代理有限公司35203 代理人: 廖吉保
地址: 361000 福建省厦门市*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开一种折射率连续渐变的光学薄膜制备方法,包括以下步骤:一、样品台设置:提供一基底,将基底设置在通过转动轴实现转动的样品台上,且样品台的转动轴与基底表面平行,二、材料源设置:提供一蒸镀源或溅射靶材,调整蒸镀源或溅射靶材位置,使其向基底入射的方向与样品台的转动轴垂直,蒸镀源或溅射靶材入射方向与基底之间形成可变化的夹角;三、镀膜控制:蒸镀源或溅射靶材向样品台上的基底送入镀膜材料,此时不断转动样品台并控制转速,使基底与蒸镀源或溅射靶材之间的夹角在0‑90°内连续变化,制得密度连续变化的光学薄膜。本发明实现蒸镀光学薄膜的折射率的连续控制,制得光学薄膜产品具有更好的光学性能,可有效增加对光的穿透或反射的控制。
搜索关键词: 一种 折射率 连续 渐变 光学薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种折射率连续渐变的光学薄膜制备方法,其特征在于:包括以下步骤一、样品台设置:提供一基底,将基底设置在通过转动轴实现转动的样品台上,且样品台的转动轴与基底表面平行,二、材料源设置:提供一蒸镀源或溅射靶材,调整蒸镀源或溅射靶材位置,使其向基底入射的方向与样品台的转动轴垂直,蒸镀源或溅射靶材入射方向与基底之间形成可变化的夹角;三、镀膜控制:蒸镀源或溅射靶材向样品台上的基底送入镀膜材料,此时不断转动样品台并控制转速,使基底与蒸镀源或溅射靶材之间的夹角在0‑90°内连续变化,制得密度可连续变化的光学薄膜。
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