[发明专利]一种碳膜电阻基片的配方在审
| 申请号： | 201610773393.9 | 申请日： | 2016-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN106380184A | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 曹维常 | 申请（专利权）人： | 安徽斯迈尔电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/10 | 分类号： | C04B35/10;H01C17/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 233400 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种碳膜电阻基片的配方，其组分组成为氧化铝、氧化硅、氧化钡、氧化锆、有机粘合剂、光学稳定剂；本发明的有益效果是以氧化铝、氧化硅、氧化钡、氧化锆为主料，还加入了有机粘合剂和光学稳定剂，使基片制成后均匀致密，耐高温、强光，绝缘性能较好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电阻 配方 | ||
【主权项】：
一种碳膜电阻基片的配方，其特征在于按重量份组成为：氧化铝30‑40、氧化硅20‑30、氧化钡20‑30、氧化锆5‑10、有机粘合剂3‑5、光学稳定剂3‑5。
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