[发明专利]一种金属氧化膜电阻的多源蒸发式制备方法在审

专利信息
申请号: 201610775228.7 申请日: 2016-08-31
公开(公告)号: CN106298128A 公开(公告)日: 2017-01-04
发明(设计)人: 曹维常 申请(专利权)人: 安徽斯迈尔电子科技有限公司
主分类号: H01C17/08 分类号: H01C17/08;C23C14/24;C23C14/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 233400 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种金属氧化膜电阻的多源蒸发式制备方法,其具体制备步骤为:(1)将锡、锑、镍分别放置在真空镀膜机的三个不同的蒸发源内同时蒸镀;(2)蒸镀完毕取出冷却后,置入紫外照射舱紫外照射处理,再置入加热炉中烘烤;(3)烘烤结束后自然冷却,再经过涂漆、压帽、焊引线、刻槽和涂外漆工序,得到金属氧化膜电阻;本发明的有益效果是:采用多源同时蒸镀工艺,保证膜内组分分布均匀,还采用了后期紫外照射和低温退火工序,加强了金属氧化膜成膜质量,提高了电阻的电学性能。
搜索关键词: 一种 金属 氧化 电阻 蒸发 制备 方法
【主权项】:
一种金属氧化膜电阻的多源蒸发式制备方法,其特征在于其具体制备步骤为:(1)将锡、锑、镍分别放置在真空镀膜机的三个不同的蒸发源内,设置蒸镀时真空度达到8×10‑4以上,镀膜速度控制在30‑50nm/s,蒸镀时陶瓷基底呈旋转状态;(2)蒸镀完毕取出冷却后,置入紫外照射舱紫外照射处理40‑50分钟,再置入加热炉中在120‑140℃下烘烤30‑40分钟;(3)烘烤结束后自然冷却,再经过涂漆、压帽、焊引线、刻槽和涂外漆工序,得到金属氧化膜电阻。
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