[发明专利]一种降低遮光提升高宽比的两次印刷结构在审

专利信息
申请号: 201610779561.5 申请日: 2016-08-30
公开(公告)号: CN106206821A 公开(公告)日: 2016-12-07
发明(设计)人: 谢平;顾峰;张玉前;苏世杰 申请(专利权)人: 通威太阳能(合肥)有限公司
主分类号: H01L31/05 分类号: H01L31/05
代理公司: 温州市品创专利商标代理事务所(普通合伙) 33247 代理人: 程春生
地址: 230000 安徽*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种降低遮光提升高宽比的两次印刷结构,用于对电池片的主栅和副栅进行优化改善,包括电池片,所述电池片的正面设有正电极、主栅和副栅,所述正电极通过主栅相互隔开,主栅呈镂空状,副栅呈层形结构设置在电池正面;所述副栅包括第一层副栅和第二层副栅,所述第一层副栅包括上表面和下表面,第二层副栅包括上表面和下表面,所述第一层副栅的下表面与电池片的正面相接触,所述第一层副栅的上表面与第二层副栅的下表面相接触。本发明的有益效果:该印刷结构减少遮光,增加对光的吸收,提高短路电流和增加栅线的高宽比,减小电流在传送的电阻,提高填充因子,来实现提升电池转换效率。效率提升目标至少在0.1%以上。
搜索关键词: 一种 降低 遮光 提升 两次 印刷 结构
【主权项】:
一种降低遮光提升高宽比的两次印刷结构,用于对电池片的主栅和副栅进行优化改善,其特征在于,包括电池片,所述电池片的正面设有正电极、主栅和副栅,所述正电极通过主栅相互隔开,主栅呈镂空状,副栅呈层形结构设置在电池正面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通威太阳能(合肥)有限公司,未经通威太阳能(合肥)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610779561.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top