[发明专利]一种等离子体射流装置在审
申请号: | 201610782245.3 | 申请日: | 2016-08-31 |
公开(公告)号: | CN106304588A | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 宋颖;王学扬;刘东平 | 申请(专利权)人: | 大连民族大学 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24 |
代理公司: | 大连一通专利代理事务所(普通合伙)21233 | 代理人: | 王丽英 |
地址: | 116000 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种等离子体射流装置,主介质管上端管口通过第一介质体封闭,第一介质体上设带有中心孔的第二介质体,介质管的内部设有水平的PCB电路板,PCB电路板的下部设截面呈环形的介质A,主介质管的下端管口处设截面呈环形的介质B,介质B的下部设截面呈环形的第三介质体,主介质管内具有若干个由绝缘材料制成的介质细管。本发明与现有技术相比具有产生等离子体更加容易,能量利用率高等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子体 射流 装置 | ||
【主权项】:
一种等离子体射流装置,其特征是:包括主介质管、介质体、介质管、介质以及PCB电路板,其中主介质管是由绝缘材料制成的管体,其上端管口通过第一介质体封闭,所述第一介质体上设高压线孔;所述第一介质体上设带有中心孔的第二介质体,该第二介质体部分伸入第一介质体内;所述介质管的内部设有水平的PCB电路板;所述PCB电路板的下部设截面呈环形的介质A;所述主介质管的下端管口处设截面呈环形的介质B,该介质B的下部设截面呈环形的第三介质体,该第三介质体由上下两段组成,上段是与介质B外径、内径均相同的直管,下段为截锥管;所述第一介质体、第二介质体、第三介质体、介质A以及介质B均由绝缘材质制成;上述主介质管内具有若干个由绝缘材料制成的毛细管,即介质细管,这些介质细管呈环形分布,并且每相邻两个介质细管中,其中一个为上端开口,下端封闭的毛细管;另一个为下端开口,上端封闭的毛细管;所述介质细管的上端穿过介质A与PCB电路板相接,所述PCB电路板上开设与上端开口的介质细管对应的条形通孔;所述下端开口的介质细管下端与介质B的下端平齐,所述下端封闭的介质细管下端伸出介质B。
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