[发明专利]一种单晶硅基异质结太阳能电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610785368.2 申请日: 2016-08-30
公开(公告)号: CN106206781B 公开(公告)日: 2018-10-26
发明(设计)人: 刘生忠;郭小佳 申请(专利权)人: 陕西师范大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/076;H01L31/18;B82Y20/00;B82Y30/00
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 李宏德
地址: 710062 *** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明一种单晶硅基异质结太阳能电池及其制备方法,所述电池包括依次层叠的ITO层、a‑Si p层、a‑Si i层、基底、a‑Si i层、a‑Si n层和ITO层,以及在ITO层和a‑Si p层间插入高掺杂的a‑Si p+层,或在ITO层和a‑Si n层间插入高掺杂的a‑Si n+层。所述方法将基底在等离子增强化学气相沉积设备中,分步进行异质结太阳能电池的a‑Si i层、a‑Si n层和a‑Si p层沉积;在电池的a‑Si p/ITO层界面或a‑Si n/ITO层界面中沉积高掺杂的a‑Si p+层或高掺杂的a‑Si n+;最后沉积ITO电极得到硅基异质结太阳能电池。
搜索关键词: 一种 单晶硅 基异质结 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种单晶硅基异质结太阳能电池,其特征在于,包括依次层叠的ITO层、a‑Si p层、a‑Si i层、基底、a‑Si i层、a‑Si n层和ITO层,以及在ITO层和a‑Si p层间插入高掺杂的a‑Si p+层,或在ITO层和a‑Si n层间插入高掺杂的a‑Si n+层;在a‑Si p+层和a‑Si p层的两层间或是a‑Si n+层和a‑Si n层的两层间插入光电增强材料;光电增强材料采用有表面等离子体效应的纳米颗粒或有纳米厚度的介电材料薄膜;纳米颗粒采用Ag、Cu、Al、Pt和Pd金属纳米颗粒的一种,或Au、Ag、Cu、Al、Pt和Pd金属纳米颗粒任意几种的组合;介电材料薄膜采用本征或掺杂的硅基薄膜;所述的硅基薄膜包括非晶硅薄膜,微晶硅薄膜,纳晶硅薄膜,多晶硅薄膜,氢化非晶硅锗薄膜中的一种或几种。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陕西师范大学,未经陕西师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610785368.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top