[发明专利]卡盘工作台有效

专利信息
申请号: 201610791367.9 申请日: 2016-08-31
公开(公告)号: CN106505027B 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 富樫谦 申请(专利权)人: 株式会社迪思科
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/687
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;于靖帅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供卡盘工作台,在对正面上形成有多个电极凸点的半导体晶片的正面侧进行吸引保持的情况下,能够防止负压的泄漏而对晶片进行可靠地吸引保持。卡盘工作台对晶片的正面进行吸引而保持该晶片,在该晶片的正面上具有器件区域和围绕该器件区域的外周剩余区域,在该器件区域中,在呈格子状划分的多个区域内分别形成有具有电极凸点的器件,其特征在于,该卡盘工作台具有:保持面,其与该电极凸点对置并对晶片的该器件区域进行吸引保持;以及外周剩余区域支承部,其围绕该保持面并借助比该保持面突出的弹性部件对晶片的该外周剩余区域进行支承,该外周剩余区域支承部与该电极凸点的高度对应而从该保持面突出。
搜索关键词: 卡盘 工作台
【主权项】:
一种卡盘工作台,其对晶片的正面进行吸引而保持该晶片,该晶片在正面具有器件区域和围绕该器件区域的外周剩余区域,在该器件区域中,在呈格子状划分的多个区域内分别形成有具有电极凸点的器件,该卡盘工作台的特征在于,具有:保持面,其与该电极凸点对置并对晶片的该器件区域进行吸引保持;以及外周剩余区域支承部,其围绕该保持面,并借助比该保持面突出的弹性部件对晶片的该外周剩余区域进行支承,该外周剩余区域支承部与该电极凸点的高度对应而从该保持面突出。
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