[发明专利]一种取向ITO薄膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种取向ITO薄膜的制备方法，将InCl₃·4.5H₂O、SnCl₄·5H₂O、溶剂和去离子水混合，放入高压反应釜中反应得到ITO喷涂液；将步骤1得到的ITO喷涂液通过空气雾化或超声雾化的方式沉积在玻璃基板上，得到取向ITO薄膜。本发明取向ITO薄膜的制备方法，有如下特点：1.溶胶配制时间短(1～2h)；2.该溶胶可以在普通钠钙玻璃(厚度<5mm，平均透过率为～88.6％)上沉积出具有(l00)取向的ITO玻璃，其电阻率～3×10^‑4Ω·cm、可见光平均透过率～82％的，且对沉积环境适应性强。

主权项

1.一种取向ITO薄膜的制备方法，其特征在于，具体按照以下步骤实施：步骤1，将InCl3·4H2O、SnCl4·5H2O、溶剂和去离子水混合，放入高压反应釜中反应得到ITO喷涂液，其中去离子水的含量为ITO喷涂液总体积的2～10％；步骤2，将步骤1得到的ITO喷涂液通过空气雾化或超声雾化的方式沉积在玻璃基板上，得到取向ITO薄膜，其中沉积的温度为300～400℃，采用N2或惰性气体为载气。