[发明专利]一种在工件上制造微纳米级防伪图文商标的方法在审
| 申请号： | 201610794411.1 | 申请日： | 2016-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN106328470A | 公开（公告）日： | 2017-01-11 |
| 发明（设计）人： | 刁克明 | 申请（专利权）人： | 北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京格允知识产权代理有限公司11609 | 代理人： | 周娇娇,谭辉 |
| 地址： | 100071 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种在工件上制造微纳米级防伪图文商标的方法，包括：把工件固定在旋转工件台上，表面完整涂上光刻胶；敷上掩模板，该掩模板上带有要形成的防伪图文商标的图案；透过掩模板对光刻胶进行紫外线照射；对光刻胶进行显影和曝光；清洗光刻胶后光刻胶上留下了要形成的防伪图文商标的图案；将工件台装入真空仓，抽取真空；产生等离子体；等离子体经引出、成束、加速、中和形成离子束；利用所述离子束轰击工件，则工件上暴露的部分溅射出金属原子从而形成防伪图文商标，所述离子束的能量为200～1000eV，溅射时间为5分钟至30分钟；将工件取出并清洗光刻胶。本发明公开的方法能够制造微纳米级防伪图文商标。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 工件 制造 纳米 防伪 图文 商标 方法 | ||
【主权项】：
一种在工件上制造微纳米级防伪图文商标的方法，包括：把工件固定在旋转工件台上，表面完整涂上光刻胶；敷上掩模板，该掩模板上带有要形成的防伪图文商标的图案；透过掩模板对光刻胶进行紫外线照射；对光刻胶进行显影和曝光；清洗光刻胶后光刻胶上留下了要形成的防伪图文商标的图案；将工件台装入真空仓，抽取真空；产生等离子体；等离子体经引出、成束、加速、中和形成离子束；利用所述离子束轰击工件，则工件上暴露的部分溅射出金属原子从而形成防伪图文商标，所述离子束的能量为200～1000eV，溅射时间为5分钟至30分钟；将工件取出并清洗光刻胶。
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