[发明专利]一种掩膜板、对其曝光的方法以及电路面板的制造方法有效
申请号: | 201610796433.1 | 申请日: | 2016-08-31 |
公开(公告)号: | CN106200258B | 公开(公告)日: | 2019-11-22 |
发明(设计)人: | 徐向阳 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/54 | 分类号: | G03F1/54;G03F7/20;G06F3/044 |
代理公司: | 44304 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 | 代理人: | 孙伟峰<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种掩膜板、对其曝光的方法以及互电容触控电路面板的制造方法,掩膜板,所述掩膜板包括第一遮挡区域、第二遮挡区域及第三遮挡区域;其中,第一遮挡区域、第二遮挡区域及第三遮挡区域对应互电容触控电路面板的图层图案区;所述第一遮挡区域采用紫外光波段a的吸光材料作为掩膜板挡光材料;所述第三遮挡区域采用紫外光波段b的吸光材料作为掩膜板挡光材料。本发明可以实现同一张掩膜板做出不同的光刻图案,可减少掩膜板的数量,进而节省成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 曝光 方法 以及 电路 面板 制造 | ||
【主权项】:
1.一种互电容触控电路面板的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括:提供基板;在所述基板上设置掩膜板,其中,所述掩膜板包括:第一遮挡区域、第二遮挡区域及第三遮挡区域,所述第一遮挡区域采用紫外光波段a的吸光材料作为掩膜板挡光材料,所述第三遮挡区域采用紫外光波段b的吸光材料作为掩膜板挡光材料,所述第二遮挡区域采用金属铬作为掩膜板挡光材料,所述第三遮挡区域为凹型,且位于掩膜板的一侧,所述第二遮挡区域位于第三遮挡区域的凹槽内,所述第一遮挡区域位于第三遮挡区域的开口处,所述第一遮挡区域对应的互电容触控电路面板的图层图案区为第一扇形区及端子区,所述第二遮挡区域对应的互电容触控电路面板的图层图案区为第一部分触控区,所述第三遮挡区域对应的互电容触控电路面板的图层图案区为第二部分触控区和第二扇形区及端子区;采用紫外光波段a进行曝光,然后进行蚀刻和光刻胶剥离;调整所述的掩膜板的位置;采用紫外光波段b进行曝光,然后进行蚀刻和光刻胶剥离;移除所述掩膜板。/n
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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