[发明专利]一种基于离子束刻蚀的打标方法及应用在审
| 申请号： | 201610797743.5 | 申请日： | 2016-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN106226994A | 公开（公告）日： | 2016-12-14 |
| 发明（设计）人： | 刁克明 | 申请（专利权）人： | 北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;C23F4/00 |
| 代理公司： | 北京格允知识产权代理有限公司11609 | 代理人： | 周娇娇;谭辉 |
| 地址： | 100071 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于离子束刻蚀的打标方法及应用，所述打标方法包括如下步骤：在基片表面涂覆一层光刻胶层；借助图形化的掩膜版，利用紫外光对光刻胶层进行曝光；去除图形化的掩膜版，得到图形化的光刻胶层；借助图形化的光刻胶层，使用离子源发射的离子束对基片的待标记处进行刻蚀；剥离图形化的光刻胶层，得到图形化的基片，实现对基片的标记。本发明通过离子束刻蚀的方法对产品进行打标，刻蚀出的标记线条侧壁几乎是垂直的，不会产生过度的线条展宽，使得最终获得的标记线条精度可达到几十纳米级，远高于激光打标机几十微米级的线条精度，从而能够明显提高打标的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 离子束 刻蚀 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种基于离子束刻蚀的打标方法，其特征在于，所述打标方法包括如下步骤：S1：在基片表面涂覆一层光刻胶层；S2：借助图形化的掩膜版，利用紫外光对光刻胶层进行曝光；S3：去除图形化的掩膜版，得到图形化的光刻胶层；S4：借助图形化的光刻胶层，使用离子源发射的离子束对基片的待标记处进行刻蚀；S5：剥离图形化的光刻胶层，得到图形化的基片，实现对基片的标记。
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