[发明专利]低羟基石英玻璃的制备方法及石英玻璃在审
| 申请号： | 201610798092.1 | 申请日： | 2016-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN106430912A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 聂兰舰;向在奎;饶传东;王蕾;刘飞翔;邵竹锋;王慧;王宏杰;贾亚男;符博;张辰阳;王玉芬 | 申请（专利权）人： | 中国建筑材料科学研究总院 |
| 主分类号： | C03B8/04 | 分类号： | C03B8/04 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)11348 | 代理人： | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址： | 100024*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明是关于低羟基石英玻璃的制备方法及石英玻璃，涉及石英玻璃制备领域，主要目的在于制备羟基含量较低的石英玻璃。石英玻璃的制备方法包括：由含硅原料经化学气相沉积制得第一二氧化硅疏松体，所述第一二氧化硅疏松体内具有气孔和羟基；对所述第一二氧化硅疏松体通入脱羟基气流，并在脱羟基温度下，使所述脱羟基气流对第一二氧化硅疏松体脱羟基后，获得第二二氧化硅疏松体；对所述第二二氧化硅疏松体在烧结温度下进行烧结，冷却后，获得石英玻璃成品。本发明中第一二氧化硅疏松体是纳米二氧化硅颗粒的聚集体，第一二氧化硅疏松体中包含大量气孔，有利第一二氧化硅疏松体中羟基的脱除，获得的石英玻璃成品中羟基含量较低，可在1ppm～50ppm或小于1ppm。 | ||
| 搜索关键词： | 羟基 石英玻璃 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种低羟基石英玻璃的制备方法，其特征在于，所述方法包括：由含硅原料经化学气相沉积制得第一二氧化硅疏松体，其中，所述第一二氧化硅疏松体内具有气孔和羟基；对所述第一二氧化硅疏松体通入脱羟基气流，并在脱羟基温度下，使所述脱羟基气流对第一二氧化硅疏松体脱羟基后，获得第二二氧化硅疏松体；对所述第二二氧化硅疏松体在烧结温度下进行烧结，冷却后，获得石英玻璃成品。
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