[发明专利]一种川楝内生放线菌的分离方法在审

专利信息
申请号: 201610800822.7 申请日: 2016-09-05
公开(公告)号: CN106119178A 公开(公告)日: 2016-11-16
发明(设计)人: 赵珂;张小平;陈强;廖萍;赵翀;廖德聪;敖晓琳 申请(专利权)人: 四川农业大学
主分类号: C12N1/20 分类号: C12N1/20;C12N1/02;C12N9/42;C12N9/88;C12N9/26;C12N1/18
代理公司: 成都方圆聿联专利代理事务所(普通合伙) 51241 代理人: 曹少华
地址: 625014 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供了一种川楝内生放线菌的分离方法,具体提供了一种表面消毒方法和组织培养方法,同时还提供了一种用于组织培养过程的酶解液;本发明分离方法可有效提高川楝内生放线菌的分离数量。此外,本发明还提供了一种培养基,该培养基适用于川楝内生放线菌的培养。
搜索关键词: 一种 川楝内生 放线菌 分离 方法
【主权项】:
一种川楝内生放线菌的分离培养方法,包含以下步骤:(1)取川楝组织,体积浓度0.1%的吐温20水溶液清洗60秒‑90秒,无菌水冲洗;体积浓度75%的乙醇水溶液浸泡5分钟‑10分钟,无菌水冲洗;有效氯浓度为1%‑2%的次氯酸钠水溶液浸泡5分钟‑10分钟,无菌水冲洗,体积浓度10%碳酸氢钠水溶液漂洗10分钟;(2)取步骤(1)处理后的川楝组织,放入无菌的搅拌器中打碎后,置于无菌研钵,加灭菌细砂与液氮进行研磨;(3)取步骤(2)得到的研磨液,装入无菌离心管,按体积比1∶2的比例,加入酶解液,混匀,避光处置,离心;所述避光处置任选自:避光放置、避光搅拌和/或避光振荡;(4)取步骤(3)离心获得的上清液,稀释,涂布于培养基上培养;所述培养基,合终浓度为50微克每毫升的制霉菌素和终浓度为50微克每毫升的重铬酸钾。
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