[发明专利]一种基于光谱比例扣除的稻谷近红外光谱模型优化方法有效

专利信息
申请号: 201610802820.1 申请日: 2016-09-05
公开(公告)号: CN106442397B 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 黄青;王纯阳 申请(专利权)人: 中国科学院合肥物质科学研究院
主分类号: G01N21/359 分类号: G01N21/359;G01N21/3563;G01N21/3554
代理公司: 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙) 34124 代理人: 张景云
地址: 230000 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供一种基于光谱比例扣除的稻谷近红外光谱模型优化方法,具体为,多次测定近红外光谱模型中水稻种子的种子、种壳、糙米的近红外光谱,得到种子、种壳和糙米近红外平均光谱;再根据公式:种子平均光谱=K1×水稻糙米平均光谱+K2×水稻种壳平均光谱,计算糙米、种壳的拟合光谱并得到回归系数K1、K2;根据K1、K2系数大小,可以扣除重合信息的影响,利用拟合光谱建立优化的近红外光谱模型;与现有技术相比,利用拟合光谱能够根据K1、K2系数大小去除水稻种子近红外光谱模型中部分干扰模型的非本质多余信息的影响,因而本发明方法建立的近红外光谱模型具有更好的分析和预测性能。
搜索关键词: 一种 基于 光谱 比例 扣除 稻谷 红外 模型 优化 方法
【主权项】:
1.一种基于光谱比例扣除的稻谷近红外光谱模型优化方法,其特征在于:包括以下步骤:1)近红外平均光谱的计算多次测定近红外光谱模型中水稻种子的种子、种壳、糙米的近红外光谱,得到种子、种壳和糙米近红外平均光谱;2)拟合光谱计算根据公式:种子平均光谱=K1×水稻糙米平均光谱+K2×水稻种壳平均光谱,对种子平均光谱进行线性回归拟合,由此得到系数K1、K2,使得其拟合结果与种子平均光谱的标准偏差最小;3)近红外光谱模型的建立根据K1、K2系数大小,扣除近红外光谱模型中水稻种子光谱包含种壳或糙米部分的重合信息的影响,即得到公式:糙米的拟合光谱=(种子平均光谱‑K2×种壳平均光谱)/K1,或种壳的拟合光谱=(种子平均光谱‑K1×糙米平均光谱)/K2;得到拟合光谱后,由此基于拟合光谱建立近红外光谱模型。
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