[发明专利]磁共振装置中成像磁场测量和校正的系统有效
申请号: | 201610803230.0 | 申请日: | 2013-05-21 |
公开(公告)号: | CN106443535B | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 蔡昆玉;张卫国;张强 | 申请(专利权)人: | 上海联影医疗科技有限公司 |
主分类号: | G01R33/565 | 分类号: | G01R33/565;G01R33/58;G01R35/00;G01R33/24 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201807 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种磁共振装置中成像磁场测量和校正的系统,包括:磁组件,用于对待扫描对象进行扫描;采集单元,用于采集与所述成像磁场相对应的信号;处理单元,用于处理所述信号,获得实际磁场强度;校正单元,用于根据所述实际磁场强度与目标磁场强度的偏差进行校正;控制单元,与所述磁组件、采集单元、处理单元和校正单元相连,用于控制磁组件提供成像磁场,用于控制采集单元进行信号的采集,用于控制处理单元处理所述信号,还用于控制校正单元进行校正。本发明可提供高质量的磁共振图像。 | ||
搜索关键词: | 磁共振 装置 成像 磁场 测量 校正 系统 | ||
【主权项】:
1.一种磁共振装置中成像磁场测量和校正的系统,其特征在于,包括:磁组件,用于对待扫描对象进行扫描;采集单元,用于采集与所述成像磁场相对应的信号;处理单元,用于处理所述信号,获得实际磁场强度;校正单元,用于根据所述实际磁场强度与目标磁场强度的偏差进行校正;控制单元,与所述磁组件、采集单元、处理单元和校正单元相连,用于控制磁组件提供成像磁场,用于控制采集单元进行信号的采集,用于控制处理单元处理所述信号,还用于控制校正单元进行校正;所述采集单元包括:探头,用于在测量射频信号激发监测样本并产生与所述成像磁场相对应的测量磁共振信号之后,采集所述测量磁共振信号;采集通道,用于传输所述测量磁共振信号;所述处理单元用于根据磁共振原理,基于所述测量磁共振信号获得实际磁场强度;所述磁共振装置还设置有图像重建单元,所述图像重建单元与所述校正单元相连,用于对通过实际磁场强度获得的数据进行图形重建的过程中,结合实际磁场强度与目标磁场强度的偏差进行所述图像重建,以输出完成校正的图像;所述校正单元包括第一计算元件和第二计算元件,所述第一计算元件用于根据实际磁场强度与目标磁场强度的偏差获得成像磁场校正量;所述第二计算元件用于根据成像磁场校正量获得所述磁组件的电流调整量;所述控制单元与所述第二计算元件以及所述磁组件相连,用于根据所述磁组件的电流调整量改变磁组件内的电流,以实现成像磁场校正;所述实际磁场强度与目标磁场强度的偏差,经过运算分为均匀项偏差,线性项偏差以及高阶项偏差。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海联影医疗科技有限公司,未经上海联影医疗科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610803230.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种磁共振快速成像方法及系统
- 下一篇:一种电流比较仪的校准系统及校准方法