[发明专利]一种基于单晶体双电光调制实时测量光学材料微观应力的装置有效
申请号: | 201610805081.1 | 申请日: | 2016-09-01 |
公开(公告)号: | CN106383000B | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | 阎文博;李少北;陈洪建;陈立品;王旭亮;樊博麟;李菲菲;杜城威;王晓敏 | 申请(专利权)人: | 河北工业大学 |
主分类号: | G01L1/25 | 分类号: | G01L1/25 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300401 天津市北辰*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于单晶体双电光调制实时测量光学材料微观应力的装置,涉及微观应力测量领域。基于单晶体双电光调制实时测量光学材料微观应力的装置包括:第一激光器、起偏器、样品、微调二维平移台、第二激光器、第三激光器、第一四象限探测器、第二四象限探测器、双电光调制器、检偏器、光电探头、锁相放大器和计算机。本发明通过四象限探测器对试样表面反射光进行实时跟踪定位测量,计算出试样厚度,消除了厚度波动对相位延迟量的干扰,并采用单晶体双电光调制,进一步提高了测量精度。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 单晶体 电光 调制 实时 测量 光学材料 微观 应力 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于单晶体双电光调制实时测量光学材料微观应力的装置,其特征在于,第一激光器(1)、起偏器(2)、试样(3)、微调二维平移台(4)、第二激光器(5)、第三激光器(6)、第一四象限探测器(7)、第二四象限探测器(8)、第一缩束镜(9)、第二缩束镜(10)、第三缩束镜(11)、第四缩束镜(12)、双电光调制器(13)、检偏器(14)、光电探头(15)、锁相放大器(16)和计算机(17)依次连接在支架(18)上,其中第二激光器和第三激光器射入试样,测量过程中采用四个缩束镜对光进行缩束,使得试样表面反射光对试样厚度波动的灵敏度提高,四象限探测器对试样表面反射光进行实时跟踪定位测量,计算出试样的厚度波动,消除了试样厚度波动对相位延迟测量的干扰,信号光经过电光调制器时被双向调制,进而调制信息被光电探头接收并传入锁相放大器,通过计算机结合试样厚度差进行计算,得到晶体微观应力双折射空间分布图,实时反应晶体内部应力的大小。
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