[发明专利]半导体装置、存储器件以及制造方法有效

专利信息
申请号: 201610805513.9 申请日: 2016-09-06
公开(公告)号: CN107799524B 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 钱钢;缪一民;孙沿林;陈旭波 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11;H01L21/8244
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 李浩
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种半导体装置、存储器件以及制造方法,涉及半导体技术领域。该半导体装置包括:半导体衬底;在该半导体衬底中的沟槽隔离部;在该半导体衬底上方的伪栅极;在该半导体衬底中位于沟槽隔离部与伪栅极之间的第一掺杂区;以及将该伪栅极与该第一掺杂区电连接的第一连接件。本发明中,通过第一连接件将伪栅极与第一掺杂区电连接,从而使得包含伪栅极的晶体管被关断,进而可以防止发生漏电,提高存储器件的可靠性。
搜索关键词: 半导体 装置 存储 器件 以及 制造 方法
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,包括:半导体衬底;在所述半导体衬底中的沟槽隔离部;在所述半导体衬底上方的伪栅极;在所述半导体衬底中位于所述沟槽隔离部与所述伪栅极之间的第一掺杂区;以及将所述伪栅极与所述第一掺杂区电连接的第一连接件。
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