[发明专利]磁记录介质和磁记录再生装置有效
申请号: | 201610806763.4 | 申请日: | 2016-09-07 |
公开(公告)号: | CN106548791B | 公开(公告)日: | 2019-04-09 |
发明(设计)人: | 山川荣进;藤克昭;早濑冴子 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | G11B5/725 | 分类号: | G11B5/725;G11B5/71;G11B5/851 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 庞东成;褚瑶杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 对于本发明的磁记录介质而言,保护层(3)的润滑剂层(4)侧的最表面含有碳和50原子%~90原子%的范围内的氮,润滑剂层(4)与最表面接触形成,含有下式(1)~(3)的化合物A~C,膜厚为0.5~2nm。R1‑C6H4OCH2CH(OH)CH2OCH2‑R2‑CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥(1)CH2(OH)CH(OH)CH2OCH2CF2CF2(OCF2CF2CF2)mOCF2CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥(2)HOCH2CF2CF2O(CF2CF2CF2O)sCF2CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥(3)。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 再生 装置 | ||
【主权项】:
1.一种磁记录介质,其为在非磁性基板上至少依次具有磁性层、保护层和润滑剂层的磁记录介质,其特征在于,所述保护层的所述润滑剂层侧的最表面含有碳和50原子%~90原子%的范围内的氮,所述润滑剂层与所述最表面接触形成,平均膜厚在0.5nm~2nm的范围内,含有下述通式(1)所示的化合物A、下述通式(2)所示的化合物B和下述通式(3)所示的化合物C,相对于所述润滑剂层中所含的所述化合物A、B和C的质量和,所述化合物A的质量与之的比(A/(A+B+C))在0.05~0.6的范围内,所述化合物B的质量与之的比(B/(A+B+C))在0.05~0.5的范围内,所述化合物C的质量与之的比(C/(A+B+C))在0.05~0.9的范围内,并且所述化合物C的平均分子量在1000~2000的范围内,R1‑C6H4OCH2CH(OH)CH2OCH2‑R2‑CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥‥(1)通式(1)中,R1为碳数为1~4的烷氧基,R2为‑CF2O(CF2CF2O)x(CF2O)yCF2‑,x、y的括号内的部分,其连接顺序可以是该记载的顺序、相反的顺序或随机的顺序,x、y分别为0~15的整数,CH2(OH)CH(OH)CH2OCH2CF2CF2(OCF2CF2CF2)mOCF2CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥‥(2)通式(2)中,m为4~50的范围的整数,HOCH2CF2CF2O(CF2CF2CF2O)sCF2CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥‥(3)通式(3)中,s为整数。
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