[发明专利]一种改善基板内缩变形的方法有效

专利信息
申请号: 201610807953.8 申请日: 2016-09-08
公开(公告)号: CN106125385B 公开(公告)日: 2019-03-12
发明(设计)人: 杨元隆 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请涉及一种改善基板内缩变形的方法。本发明方法简单,通过在基板上划分显示区和非显示区;在非显示区上设置金属线,以提高基板的散热均匀性。进而提高基板的散热速率,缓解玻璃基板在加热状态进行冷却过程中四边收缩严重的问题。本发明方法减少了玻璃基底总收缩量四边内缩的情况,可以增加黄光制程曝光对位的精确度,同时增加产品分辨率;本发明解决了由于TFT制程过程中会反复的对玻璃基底进行加热、冷却,使玻璃基底的总收缩量内缩变形的问题。
搜索关键词: 一种 改善 基板内缩 变形 方法
【主权项】:
1.一种改善基板内缩变形的方法,其特征在于,所述改善基板内缩变形的方法包括:在基板上划分显示区和非显示区;在非显示区上设置金属线,以提高基板的散热均匀性,在基板相对的两条边之间从一条边到另一条边的1/4~3/4区域内竖向连续非显示区上设置金属线;或在基板相对的两条边之间从一条边到另一条边的1/4~3/4区域内横向连续非显示区上设置金属线。
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