[发明专利]一种发光二极管及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201610808053.5 申请日: 2016-09-06
公开(公告)号: CN106449911B 公开(公告)日: 2019-05-14
发明(设计)人: 杨春艳;吴志浩;王江波;刘榕 申请(专利权)人: 华灿光电(浙江)有限公司
主分类号: H01L33/02 分类号: H01L33/02;H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 徐立
地址: 322000 浙江省金华市义*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种发光二极管及其制造方法,属于半导体技术领域。所述发光二极管包括衬底、以及依次层叠在衬底上的第一Ⅲ族氮化物半导体层、有源层、第二Ⅲ族氮化物半导体层、掺杂有p型掺杂剂的Ⅱ‑Ⅵ族半导体层、透明导电层,第二Ⅲ族氮化物半导体层上设有延伸至第一Ⅲ族氮化物半导体层的凹槽,第一电极设置在第一Ⅲ族氮化物半导体层上,第二电极设置在透明导电层上。本发明通过Ⅱ‑Ⅵ族半导体层极大地提高了空穴浓度,同时透明导电层促进了电流的扩散,从而极大地提高空穴注入效率、降低LED工作电压,显著改善LED的外量子效率在大的电流注入下的衰减问题。而且还可以提高光线的透过率、以及LED的发光亮度。
搜索关键词: 一种 发光二极管 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种发光二极管,所述发光二极管包括衬底、以及依次层叠在所述衬底上的第一Ⅲ族氮化物半导体层、有源层、第二Ⅲ族氮化物半导体层、透明导电层,所述第二Ⅲ族氮化物半导体层上设有延伸至所述第一Ⅲ族氮化物半导体层的凹槽,第一电极设置在所述第一Ⅲ族氮化物半导体层上,第二电极设置在所述透明导电层上,其特征在于,所述发光二极管还包括掺杂有p型掺杂剂的Ⅱ‑Ⅵ族半导体层,所述Ⅱ‑Ⅵ族半导体层层叠在所述第二Ⅲ族氮化物半导体层和所述透明导电层之间;所述第一Ⅲ族氮化物半导体层为不掺杂的GaN层,所述第二Ⅲ族氮化物半导体层为不掺杂的GaN层。
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