[发明专利]一种基于介质集成波导缝隙天线的反射阵列天线在审

专利信息
申请号: 201610809028.9 申请日: 2016-09-07
公开(公告)号: CN107799881A 公开(公告)日: 2018-03-13
发明(设计)人: 车文荃;范冲;杨婉琛;金华燕;曹越 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: H01Q1/36 分类号: H01Q1/36;H01Q3/30;H01Q13/10;H01Q21/06
代理公司: 南京理工大学专利中心32203 代理人: 朱宝庆
地址: 210094 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种基于介质集成波导缝隙天线的反射阵列天线。该反射阵列天线基于介质集成波导缝隙天线单元,通过在上层介质集成波导上表面刻蚀缝隙,产生具有辐射特性的缝隙天线,通过在两层介质集成波导交界金属面上刻蚀缝隙,实现上下层介质集成波导能量的传输。通过调节下层介质集成波导的长度,实现线性相位调节的功能。该反射阵列天线单元采用介质集成波导实现单元结构的设计,结构简单,加工容易,成本和重量都相对较小,因而可以大规模生产。
搜索关键词: 一种 基于 介质 集成 波导 缝隙 天线 反射 阵列
【主权项】:
一种基于介质集成波导缝隙天线的反射阵列天线,包括若干个呈周期性排列的介质集成波导缝隙天线单元(1),其特征在于,每个介质集成波导缝隙天线单元(1)均包括从上至下依次粘连在一起的上层金属层(2)、上层介质基板(3)、中间金属层(4)、下层介质基板(5)、下层金属层(6),每个介质集成波导缝隙天线单元(1)还包括上层介质集成波导(8)和下层介质集成波导(10);其中上层金属层(2)和中间金属层(4)上分别设置上层辐射缝隙(7)和中层耦合缝隙(9)且缝隙间相互垂直设置且均偏离各自所在层所平行的中心线且关于各自所在层所垂直的中心线对称设置,上层介质集成波导(8)若干均设置于上层介质基板(3)中且每一上层介质集成波导(8)上、下两端分别与上层金属层(2)和中间金属层(4)相连接,上层介质集成波导(8)金属通孔成等间距排列,下层介质集成波导(10)若干均设置于下层介质基板(5)中且每一下层介质集成波导(10)上、下两端分别与中间金属层(4)和下层金属层(6)相连接,下层介质集成波导(10)金属通孔成等间距排列,与中层耦合缝隙(9)相距较远的一边的下层介质集成波导(10)距中层耦合缝隙(9)的间距可调以改变下层介质集成波导(10)的长度;所述介质集成波导缝隙天线单元(1)中下层介质集成波导(10)的长度间不完全相同。
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