[发明专利]一种发光二极管结构及其制作方法有效
申请号: | 201610810002.6 | 申请日: | 2016-09-08 |
公开(公告)号: | CN106169528B | 公开(公告)日: | 2018-11-20 |
发明(设计)人: | 彭康伟;林素慧;许圣贤;何安和 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/22 | 分类号: | H01L33/22;H01L33/46 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361009 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明提出了一种发光二极管结构及其制作方法,包括:衬底,以及生长在衬底表面的发光外延层和分布布拉格反射层,发光外延层和分布布拉格反射层分别位于衬底两侧,其特征在于:所述衬底的背面具有一系列沙漏状的凹槽结构,且所述分布布拉格反射层形成于所述凹槽结构表面。 | ||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种发光二极管结构,包括:衬底,以及生长在衬底表面的发光外延层和分布布拉格反射层,发光外延层和分布布拉格反射层分别位于衬底两侧,其特征在于:所述衬底的背面具有一系列沙漏状的凹槽结构,且所述分布布拉格反射层形成于所述凹槽结构表面。
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