[发明专利]一种线路板零公差控深钻孔方法在审

专利信息
申请号: 201610810462.9 申请日: 2016-09-07
公开(公告)号: CN106413288A 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 周文涛;宋清;赵波;喻恩 申请(专利权)人: 深圳崇达多层线路板有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42
代理公司: 深圳市精英专利事务所44242 代理人: 冯筠
地址: 518000 广东省深圳市宝安区沙井街道新桥横岗下工*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种线路板零公差控深钻孔方法,所述钻孔方法包括控深钻孔的工序和镭射钻孔的工序,所述控深钻孔的工序中钻孔深度为距目标层0‑0.1mm,所述镭射钻孔将所述目标层表面的介质层去除,得到零公差钻孔。由于机械控深钻孔的精度为0.05mm,机械控深钻时将钻孔深度设定为距目标层0.05‑0.1mm,避免了机械钻孔过深、使机械钻孔底部到下一电路层的距离过小,或钻到目标层的下一层电路层;然后在机械孔深钻孔的基础上镭射钻孔,除去目标层表面的介质层后,孔深恰好达到目标层,实现了零公差控深钻孔,有效降低了微波、射频产品信号损耗,保证了线路板的质量和可靠性,满足了客户对高阶产品的需求。
搜索关键词: 一种 线路板 公差 钻孔 方法
【主权项】:
一种线路板零公差控深钻孔方法,其特征在于,所述线路板包括外层铜箔和至少两层内层芯板,所述内层芯板之间、所述内层芯板与所述外层铜箔之间设置有介质层;所述钻孔方法包括控深钻孔的工序和镭射钻孔的工序,所述控深钻孔的工序中钻孔深度为距目标层0.05‑0.1mm,所述镭射钻孔将所述目标层表面的介质层去除,得到零公差钻孔。
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