[发明专利]一种可见光与红外兼容伪装材料及其制备方法

摘要

本发明公开了一种可见光与红外兼容伪装材料，为层状结构，从下至上依次包括衬底、红外低发射率层和氧化物薄膜层；所述氧化物薄膜层为Cr2O3薄膜。本发明的制备方法，包括以下步骤(1)在衬底上通过射频磁控溅射方法制备红外低发射率层；(2)在所述红外低发射层的表面通过射频磁控溅射方法制备Cr2O3薄膜，完成可见光与红外兼容伪装材料的制备。本发明的可见光与红外伪装材料中的氧化物薄膜颜色可调控，不仅具有绿色，而且其他多种色彩，能适应不同条件下的伪装要求。

主权项

一种可见光与红外兼容伪装材料的制备方法，其特征在于，所述可见光与红外兼容伪装材料为层状结构，从下至上依次包括衬底、红外低发射率层和氧化物薄膜层；所述氧化物薄膜层为Cr2O3薄膜；所述Cr2O3薄膜的厚度为100nm～1μm；所述红外低发射率层选自Au薄膜、Ag薄膜和Al薄膜中的任一种；所述制备方法包括以下步骤：(1)在衬底上通过射频磁控溅射方法制备红外低发射率层；射频磁控溅射工艺参数为：以Al靶、Ag靶或Au靶为溅射靶材，本底真空为2×10‑8～5×10‑6Torr，溅射温度为25℃～100℃，溅射压力为2mTorr～7mTorr，溅射功率为50W～300W；(2)在所述红外低发射率层的表面通过射频磁控溅射方法制备Cr2O3薄膜，完成可见光与红外兼容伪装材料的制备；射频磁控溅射的工艺参数为：以Cr2O3靶为溅射靶材，本底真空为2×10‑8～5×10‑6Torr，溅射温度为470℃～800℃，溅射压力为2mTorr～7mTorr，溅射功率为50W～300W。