[发明专利]用于电路仿真的门极换流晶闸管物理模型的建模方法有效
申请号: | 201610811116.2 | 申请日: | 2016-09-07 |
公开(公告)号: | CN106407542B | 公开(公告)日: | 2019-09-27 |
发明(设计)人: | 王佳蕊;孔力;屈慧 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电工研究所 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 关玲 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种用于电路仿真的门极换流晶闸管物理模型的建模方法,步骤为:1、建立基于改进型傅里叶级数法,并考虑过剩载流子注入状态变化,建立N基区子模型;2、采用双曲正弦法建立P基区子模型;3、采用准静态法建立N缓冲层子模型;4、根据各区域子模型及相邻区域PN结压降建立承压子模型;5、根据步骤1~步骤4得到的子模型,建立门极换流晶闸管物理模型。本发明基于门极换流晶闸管内部各区域载流子运行特性,通过理论推导得出各区域子模型建模方法,结合各区域边界条件,建立了完整的门极换流晶闸管物理模型。 | ||
搜索关键词: | 用于 电路 仿真 换流 晶闸管 物理 模型 建模 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于电路仿真的门极换流晶闸管物理模型的建模方法,其特征在于,所述建模方法包含以下步骤:步骤1:建立基于改进型傅里叶级数法,并考虑过剩载流子注入状态变化,建立N基区子模型;步骤2:采用双曲正弦法建立P基区子模型;步骤3:采用准静态法建立N缓冲层子模型;步骤4:根据各区域子模型及相邻区域PN结压降建立承压子模型;步骤5:根据步骤1~步骤4得到的子模型,建立门极换流晶闸管物理模型;所述的步骤1中,(1)所述的改进型傅里叶级数法是在现有傅里叶级数法基础上,增加了积分环节,在比例环节和积分环节前增加了模糊化环节;采用改进型傅里叶级数法的N基区耗尽区压降Vsc的表达式为:其中,KP为比例系数,KI为积分系数,px2为N基区非耗尽区位于非耗尽区右侧边界x2处过剩空穴浓度;所述的改进型傅里叶级数法的N基区耗尽区压降Vsc的表达式能够针对关断过程实现对比例系数KP和积分系数KI的动态控制,兼顾了电压关断暂态和稳态精度;(2)所考虑的N基区非耗尽区过剩载流子注入状态影响的方法为:当N基区非耗尽区注入的过剩空穴浓度远小于N基区掺杂浓度时,N基区非耗尽区处于小注入状态;小注入时,双极迁徙率μ约等于空穴迁移率μp,双极扩散系数D约等于空穴扩散系数Dp,场强E约等于0,则双极输运方程可化为小注入时双极扩散方程:其中,τp为小注入时N基区非耗尽区过剩空穴寿命,Dp为空穴扩散系数,p为小注入时N基区非耗尽区过剩空穴浓度,x为N基区非耗尽区位置变量,t为时间变量;将后述的式(6)~式(8)代入式(16),将式(16)化为通过等效RC并联电路求解的一阶微分方程:其中,下标k=0,1,2,3…,Rk为等效RC并联电路的电阻,Ck为等效RC并联电路的电容,Ik为等效RC并联电路的电流源,均为非耗尽区宽度x21的函数;Iforce等效为主电路电流源,为N基区非耗尽区边界条件的函数;针对式(9)中的下标k取偶数和奇数时,Iforce分为Ieven和Iodd,表达式为:其中,p(x,t)为N基区非耗尽区过剩空穴浓度,D为N基区非耗尽区双极扩散系数,x1为N基区非耗尽区左侧边界,x2为N基区非耗尽区右侧边界,Ieven为式(9)中的下标k取偶数时等效RC并联电路主电路电流源,Iodd为k取奇数时等效RC并联电路主电路电流源;由电子和空穴全电流公式,及N基区非耗尽区满足注入的过剩空穴浓度小于N基区掺杂浓度NBN的小注入条件,可得非耗尽区边界处空穴梯度表达式:其中,q为电子电荷量,A为门极换流晶闸管物理模型的有效面积,Ip1为N基区非耗尽区左侧边界空穴电流,Ip2为N基区非耗尽区右侧边界空穴电流,Dp为空穴扩散系数,x1为N基区非耗尽区左侧边界,x2为N基区非耗尽区右侧边界;将式(17)代入式(10),可得N基区非耗尽区小注入时,式(9)中的下标k取偶数时等效RC并联电路主电路电流源Ieven,及k取奇数时等效RC并联电路主电路电流源Iodd的表达式:其中,q为电子电荷量,A为门极换流晶闸管物理模型的有效面积,Ip1为N基区非耗尽区左侧边界空穴电流,Ip2为N基区非耗尽区右侧边界空穴电流;将式(18)代入式(9),则可求得RC并联电路端电压P0及Pk,将RC并联电路端电压P0、Pk及N基区非耗尽区宽度x21的表达式(14)代入N基区非耗尽区过剩空穴浓度p(x,t)离散余弦傅里叶级数的表达式(6),得到N基区非耗尽区位置x的函数,则可得小注入时N基区非耗尽区任意时空的过剩少子浓度p(x,t);求得小注入时N基区非耗尽区任意时空的过剩少子浓度p(x,t),便建立了对N基区小注入时非耗尽区模型;将所述RC并联电路端电压P0、Pk及N基区非耗尽区宽度x21的表达式(14)代入N基区非耗尽区过剩空穴浓度p(x,t)的离散余弦傅里叶级数表达式(6),得到N基区非耗尽区位置x的函数的方法如下:N基区非耗尽区宽度x21的表达式为:其中,q为电子电荷量,A为门极换流晶闸管物理模型的有效面积,WN为N基区宽度,NBN为N基区掺杂浓度,IA为门极换流晶闸管物理模型的阳极电流,Vsat为N基区耗尽区空穴饱和速度;N基区非耗尽区过剩空穴浓度p(x,t)的离散余弦傅里叶级数表达式为:其中,x∈[x1,x2],x1为N基区非耗尽区左侧边界,x2为N基区非耗尽区右侧边界,x1至x2之间为N基区非耗尽区,P0(t)和Pk(t)表达式为:其中,系数k=1,2,3…,x1为N基区非耗尽区左侧边界,x2为N基区非耗尽区右侧边界,p(x,t)为N基区非耗尽区过剩空穴浓度。
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