[发明专利]一种LPCVD镀膜工艺后期基板冷却系统

摘要

本发明属于LPCVD镀膜工艺技术领域，具体涉及一种LPCVD镀膜工艺后期基板冷却系统。本发明一种LPCVD镀膜工艺后期基板冷却系统包括：冷却腔室、水冷板组件和氮气进气管路；所述冷却腔室包括腔室上盖和冷却腔腔体；所述水冷板组件包括水冷板和内嵌于所述水冷板的冷却管；所述冷却管一端设有冷却水进水口；所述氮气进气管路包括氮气进气口和氮气出口。本发明在镀膜工艺沉积完成后，可以是镀膜基板温度均匀且能快速降低下来，防止基板出现翘曲和炸裂的情况。

主权项

一种LPCVD镀膜工艺后期基板冷却系统，其特征在于：包括冷却腔室、水冷板组件(12)和氮气进气管路(14)；所述冷却腔室包括腔室上盖(11)和冷却腔腔体(19)；所述腔室上盖(11)和冷却腔腔体(19)围成第一封闭空间(1)；所述水冷板组件(12)包括水冷板(21)和内嵌于所述水冷板(21)的冷却管(22)；所述冷却管(22)一端设有冷却水进水口(16)；所述氮气进气管路(14)包括氮气进气口(18)和氮气出口(13)；所述水冷板组件(12)设置于第一封闭空间(1)内，所述水冷板组件(12)将第一封闭空间(1)分割成第二封闭空间(2)和第三封闭空间(3)；所述第三封闭空间(3)位于第二封闭空间(3)下方；在所述水冷板(21)上还均匀分布有多个连通第二封闭空间(2)和第三封闭空间(3)的气体扩散孔(23)；所述氮气进气口(18)设置于第二封闭空间(1)内；所述氮气出口(13)设置于第一封闭空间(1)外。