[发明专利]基板处理装置及基板处理方法有效

专利信息
申请号: 201610811624.0 申请日: 2012-09-12
公开(公告)号: CN106373911B 公开(公告)日: 2019-04-09
发明(设计)人: 榎木田卓;中原田雅弘;宫田亮;木山秀和;饭田成昭 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677;H01L21/687
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置具有:承载区,其包含左右分开地设置的第1承载件载置部及第2承载件载置部;处理区,其具有将多个层部分上下配置而成的层构造,并且各层部分具有用于输送基板的基板输送机构和用于处理基板的处理组件;塔单元,其含有多个基板载置部,该多个基板载置部配置在可利用多个基板载置部各自所对应的层部分的基板输送机构交接基板的高度位置;第1基板移载机构,其用于在第1承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板;第2基板移载机构,其用于在第2承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板。
搜索关键词: 处理 装置 方法
【主权项】:
1.一种基板处理装置,其中,该基板处理装置包括:承载区,该承载区包含用于对能够收纳多个基板的承载件进行载置的第1承载件载置部和第2承载件载置部,从上述承载区的近前侧看来,左右互相分开地设有第1承载件载置部及第2承载件载置部;处理区,其设在上述承载区的背面侧,具有将多个层部分上下配置而成的层构造,并且各层部分具有用于输送基板的基板输送机构和用于处理基板的处理组件;塔单元,从上述处理区侧朝向承载区看来该塔单元设在第1承载件载置部和第2承载件载置部之间的位置,该塔单元包含多个基板载置部,该多个基板载置部配置在可利用多个基板载置部各自所对应的层部分的基板输送机构交接基板的高度位置;第1基板移载机构,其用于在上述第1承载件载置部上的承载件与上述塔单元的各基板载置部之间移载基板,具有用于保持基板的、进退、升降自由的基板保持构件;以及第2基板移载机构,其用于在上述第2承载件载置部上的承载件与上述塔单元的各基板载置部之间移载基板,具有用于保持基板的、进退、升降自由的基板保持构件,其中,从上述承载区的近前侧看来,上述塔单元、上述第1基板移载机构以及上述第2基板移载机构位于沿左右方向的同一条直线上。
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