[发明专利]用于描述LDMOS晶体管电容特性的仿真方法在审
申请号: | 201610814787.4 | 申请日: | 2016-09-09 |
公开(公告)号: | CN106383941A | 公开(公告)日: | 2017-02-08 |
发明(设计)人: | 王正楠 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 张振军,吴敏 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种用于描述LDMOS晶体管电容特性的仿真方法,用于描述LDMOS晶体管电容特性的仿真方法包括建立所述LDMOS晶体管的等效电路模型;对所述等效电路模型进行仿真;其中,所述等效电路模型包括MOS管;第一可变负载,一端耦接所述MOS管的漏极,另一端作为所述等效电路模型的漏极;第二可变负载,一端耦接所述MOS管的源极,另一端作为所述等效电路模型的源极;第一可变容抗元件,一端耦接所述MOS管的栅极,另一端耦接所述等效电路模型的漏极;第二可变容抗元件,一端耦接所述MOS管的栅极,另一端耦接所述MOS管的体极。本发明技术方案提高了LDMOS晶体管的仿真的准确性。 | ||
搜索关键词: | 用于 描述 ldmos 晶体管 电容 特性 仿真 方法 | ||
【主权项】:
一种用于描述LDMOS晶体管电容特性的仿真方法,其特征在于,包括:建立所述LDMOS晶体管的等效电路模型,其中,所述等效电路模型包括:MOS管;第一可变负载,其一端耦接所述MOS管的漏极,其另一端作为所述等效电路模型的漏极;第二可变负载,其一端耦接所述MOS管的源极,其另一端作为所述等效电路模型的源极;第一可变容抗元件,其一端耦接所述MOS管的栅极,其另一端耦接所述等效电路模型的漏极;第二可变容抗元件,其一端耦接所述MOS管的栅极,其另一端耦接所述MOS管的体极;对所述等效电路模型进行仿真。
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