[发明专利]用于形成半导体图像传感器器件和结构的方法在审
申请号: | 201610818514.7 | 申请日: | 2016-09-13 |
公开(公告)号: | CN106558595A | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | R·泽罗姆;S·C·弘;D·普里塞;G·M·格里弗纳 | 申请(专利权)人: | 半导体元件工业有限责任公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 金晓 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开涉及用于形成半导体图像传感器器件和结构的方法。在一个实施例中,本发明提供了一种形成背侧照明图像传感器的方法,所述方法包括提供具有第一主表面和被配置为接收入射光的第二主表面的半导体材料区域。像素结构被形成于邻接所述第一主表面的所述半导体材料区域内。之后,形成包括金属材料的沟槽结构,所述沟槽结构延伸穿过所述半导体材料区域。所述沟槽结构的第一表面邻接所述半导体材料区域的所述第一主表面以及邻接所述半导体材料区域的所述第二主表面的第二表面。第一接触结构电连接到所述导电沟槽结构的一个表面并且第二接触结构电连接到相背对的第二表面。 | ||
搜索关键词: | 用于 形成 半导体 图像传感器 器件 结构 方法 | ||
【主权项】:
一种用于形成图像传感器器件的方法,所述方法包括:提供包括第一主表面和相背对的第二主表面的半导体衬底,其中所述半导体衬底还包括邻接所述第一主表面设置的第一介电区域和邻接所述第一介电区域设置的第一半导体区域;在所述第一半导体区域内形成多个掺杂区域;在所述第一半导体区域上并且邻接所述多个掺杂区域的至少部分形成多个导电结构,其中所述多个掺杂区域和所述多个导电结构被配置为像素结构;之后形成延伸穿过所述第一半导体区域到达所述第一介电区域的沟槽;在所述沟槽内提供导电材料,其中所述导电材料与所述第一半导体区域电隔离,并且其中所述导电材料包括金属,并且其中所述沟槽和所述导电材料被配置为导电沟槽结构;形成覆于所述第一半导体区域上的绝缘互连结构,其中所述绝缘互连结构电耦接至所述沟槽中的所述导电材料;移除所述半导体衬底,并且留下所述第一介电区域的与所述第一半导体区域相邻的位置的至少一部分;以及形成在所述第一介电区域上并且电耦接到所述沟槽中的所述导电材料的第一电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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