[发明专利]一种掩膜版清洁装置有效
申请号: | 201610819424.X | 申请日: | 2016-09-12 |
公开(公告)号: | CN106292179B | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | 岳浩;张玉虎;王军帽;聂彬 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F7/20 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明实施例提供一种掩膜版清洁装置,涉及掩膜版维护保养技术领域,能够去除掩膜版和支撑板上的灰尘或其他细小微粒。用于对待清洁掩膜版以及放置待清洁掩膜版的支撑板进行清洁,包括相对设置的第一面板和第二面板,第一面板与第二面板之间具有间隙,用于将待清洁掩膜版设置于第一面板与第二面板之间,且将第二面板设置于待清洁掩膜版与支撑板之间进行清洁操作;在第一面板靠近第二面板的一侧设置有多个出气口;至少在第二面板背离第一面板的一侧设置有多个出气口;在掩膜版清洁装置上还设置有与出气口相连接的气源。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜版 清洁 装置 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜版清洁装置,用于对待清洁掩膜版以及放置所述待清洁掩膜版的支撑板进行清洁,其特征在于,包括相对设置的第一面板和第二面板,所述第一面板与所述第二面板之间具有间隙,用于将待清洁掩膜版设置于所述第一面板与所述第二面板之间,且将所述第二面板设置于所述待清洁掩膜版与所述支撑板之间进行清洁操作;在所述第一面板靠近所述第二面板的一侧设置有多个出气口;至少在所述第二面板背离所述第一面板的一侧设置有多个出气口;在所述掩膜版清洁装置上还设置有与所述出气口相连接的气源;还包括限位部,所述限位部为条状,所述限位部的固定端固定连接在所述掩膜版清洁装置上,限位端设置在所述第二面板靠近所述支撑板的一侧,用于在所述的掩膜版清洁装置放入清洁工位后与所述支撑板侧面相抵靠。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610819424.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种LED路灯
- 下一篇:一种内扣式摄影摄像LED灯罩及摄影摄像LED灯
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备