[发明专利]一种高迁移率铟镓锌氧薄膜晶体管的低温液相制备方法在审
申请号: | 201610821769.9 | 申请日: | 2016-09-14 |
公开(公告)号: | CN106206292A | 公开(公告)日: | 2016-12-07 |
发明(设计)人: | 夏国栋;张倩;王素梅 | 申请(专利权)人: | 齐鲁工业大学 |
主分类号: | H01L21/331 | 分类号: | H01L21/331 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 250333 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明属于半导体及微电子器件领域,特别涉及一种高迁移率铟镓锌氧薄膜晶体管的低温液相制备方法。包括如下步骤:称取可溶性的锌盐、锡盐,量取溶剂,配置浓度为0.01‑0.5摩尔/升的铟镓锌氧前驱体溶液,经过0.1‑3小时的磁力搅拌和超声分散形成澄清透明的铟镓锌氧前驱体溶液;制备铟镓锌氧薄膜:将铟镓锌氧前驱体溶液涂覆到预先涂有介电层/栅极薄膜的衬底上形成铟镓锌氧前驱体薄膜,进行50‑150 ℃的预热处理,然后经过一定功率、时间和温度的光波退火,根据铟镓锌氧薄膜的厚度要求可多次涂覆前驱体铟镓锌氧溶液并退火处理,即得到铟镓锌氧透明半导体薄膜。在铟镓锌氧透明半导体薄膜上沉积源漏电极,即得到铟镓锌氧薄膜晶体管。本发明所得铟镓锌氧薄膜晶体管性能高,在信息电子领域有重要应用前景。通过本发明的工艺可以避免通常的高温溶液工艺、工艺周期长或昂贵设备等,成本低,适合工业化大规模生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 迁移率 铟镓锌氧 薄膜晶体管 低温 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种高迁移率铟镓锌氧薄膜晶体管的低温液相制备方法,其特征在于包括如下步骤:(1) 制备铟镓锌氧前驱体溶液:称取可溶性的铟盐、镓盐及锌盐,量取溶剂,配置浓度为0.01‑0.5摩尔/升的铟镓锌氧前驱体溶液,经过0.1‑3小时的磁力搅拌和超声分散形成澄清透明的铟镓锌氧前驱体溶液;(2) 制备铟镓锌氧薄膜:将铟镓锌氧前驱体溶液涂覆到预先涂有介电层/栅极薄膜的的衬底上形成铟镓锌氧前驱体薄膜,进行50‑150 ℃的预热处理,然后经过一定功率、时间和温度的光波退火,根据铟镓锌氧薄膜的厚度要求可多次涂覆前驱体铟镓锌氧溶液并退火处理,得到铟镓锌氧透明半导体薄膜;(3) 制备铟镓锌氧薄膜晶体管:在铟镓锌氧透明半导体薄膜上沉积源漏电极,即得到铟镓锌氧薄膜晶体管;所述的光波的生成仪器为用作厨具的光波炉或具有卤素灯管的加热仪器。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造