[发明专利]硬X射线微聚焦用WSi2/Al0.98Si0.02多层膜Laue透镜有效
| 申请号： | 201610822539.4 | 申请日： | 2016-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN106324711B | 公开（公告）日： | 2018-04-17 |
| 发明（设计）人： | 朱京涛;张嘉怡;朱圣明;冀斌 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G02B3/00 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司31225 | 代理人： | 陈亮 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及硬X射线微聚焦用WSi2/Al0.98Si0.02多层膜Laue透镜，该多层膜Laue透镜由WSi2层和掺杂2wt％Si的金属Al层交替镀制形成，厚度比为0.5。与现有技术相比，本发明提出新型材料Laue透镜的设计，在保证衍射效率的前提下，减小上千层膜层镀制过程中膜系的应力，降低多层膜的界面粗糙度，改善成膜质量，有效增大Laue透镜的口径和光通量，优化聚焦性能。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 聚焦 wsi2 al0 98 si0 02 多层 laue 透镜 | ||
【主权项】：
硬X射线微聚焦用WSi2/Al0.98Si0.02多层膜Laue透镜，其特征在于，该多层膜Laue透镜由WSi2层和掺杂2wt％Si的金属Al层交替镀制形成。
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