[发明专利]一种通过pH冲击来提高井冈霉素产量的方法有效

专利信息
申请号: 201610832595.6 申请日: 2016-09-19
公开(公告)号: CN106434795B 公开(公告)日: 2020-02-18
发明(设计)人: 周文文;蒋晶;孙亚芳;郑晓冬 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C12P19/46 分类号: C12P19/46;C12R1/55
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 郑海峰
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种通过pH冲击来提高井冈霉素产量的方法,通过在一定发酵阶段在发酵培养基中添加适量的碱溶液来提高井冈霉素发酵产量。通过在发酵开始20h后向吸水链霉菌5008的发酵培养基中添加2mol/L的NaOH溶液调整发酵液的pH至8.0,其他工艺条件保持一样,利用pH冲击实现井冈霉素发酵产量的提高,使得最终产量达到14.44g/L,比未添加NaOH溶液的对照组发酵产量高27.3%。本发明所述的方法简单易行、能耗少,且获得较高的井冈霉素产量,降低了生产成本,可应用于工业化大规模生产。
搜索关键词: 一种 通过 ph 冲击 提高 霉素 产量 方法
【主权项】:
一种通过pH冲击来提高井冈霉素产量的发酵方法,其特征在于包括如下步骤:第一步,将‑80℃保存的吸水链霉菌井冈变种5008菌株的孢子悬浮液融化,将其涂布于含有固体培养基的平板上,然后将平板倒置,于37℃培养7‑10d,待表面长满青灰色孢子时取出,制备孢子活化液;所述的吸水链霉菌井冈变种5008菌株,Streptomyces hygroscopicus var.jinggangensis 5008,保藏于中国普通微生物菌种保藏管理中心,保藏号为CGMCC4.1026;第二步,将孢子活化液与种子培养基按照体积比为1:1000的比例接种到种子培养基中,接种后于37℃,220rpm条件下培养20‑28小时;第三步,将种子培养液与发酵培养基按照体积比为1:10的比例接种到发酵培养基中,接种后以37℃,220rpm条件下培养12‑24h后,加入碱溶液直到发酵体系pH达到7.5‑8.5,继续发酵96‑120h,发酵结束。
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