[发明专利]光致抗蚀抗电镀剂组合物、其应用及包括其膜层的基材在审

专利信息
申请号: 201610834661.3 申请日: 2016-09-20
公开(公告)号: CN106226996A 公开(公告)日: 2016-12-14
发明(设计)人: 王俊峰;刘启升;张明;杨遇春 申请(专利权)人: 深圳市容大感光科技股份有限公司
主分类号: G03F7/027 分类号: G03F7/027;G03F7/004;G03F7/09
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司11285 代理人: 钟守期;王媛
地址: 518100 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及光致抗蚀抗电镀剂组合物、其应用及包括由该组合物形成的膜层的基材,所述光致抗蚀抗电镀剂包括:光引发剂组合物3‑15份、可碱水溶性光固化树脂20‑80份、可光固化组合物1‑20份、填料10‑40份、溶剂1‑30份和添加剂1‑10份,其中各组分基于100重量份的光致抗蚀抗电镀剂组合物计,所述光引发剂组合物为在230nm‑405nm波段范围内均能够发生紫外吸收且产生自由基的一类光引发剂组合物。光致抗蚀抗电镀剂组合物能够快速光固化,又具备优异的抗蚀抗电镀性。
搜索关键词: 光致抗蚀抗 电镀 组合 应用 包括 基材
【主权项】:
光致抗蚀抗电镀剂组合物,其包括以下组分:光引发剂组合物3‑15份、可碱水溶性光固化树脂20‑80份、可光固化组合物1‑20份、填料10‑40份、溶剂1‑30份和添加剂1‑10份,其中各组分基于100重量份的光致抗蚀抗电镀剂组合物计,所述光引发剂组合物是在230nm‑405nm波段范围内均能够发生紫外吸收且产生自由基的一类光引发剂组合物,并且包括两种或两种以上光引发剂。
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