[发明专利]一种轮廓蚀刻方法及装置

摘要

本发明实施例公开一种轮廓蚀刻方法及装置，该方法中，根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和光圈半径，计算轮廓掩膜。其中，所述轮廓掩膜在各轮廓段的补偿蚀刻量均相同，这种情况下，即使在拐角处得到的蚀刻量，也和在轮廓的其他部位得到的蚀刻量是完全相同的，因此，若待蚀刻图形中的拐角为圆角，在蚀刻后仍为圆角，而不会变成尖角。并且，该方法通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将经过蚀刻补偿的所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，能够去除多余的轮廓段。因此，通过本发明实施例公开的轮廓蚀刻方法，能够使蚀刻结果与期望蚀刻结果相同，从而解决现有技术中存在的蚀刻结果与期望蚀刻结果不同的问题。

主权项

1.一种轮廓蚀刻方法，其特征在于，包括：获取待蚀刻图形中包含的各轮廓段的轮廓类型，其中，所述轮廓类型包括：直线段、圆弧段和圆；根据所述各轮廓段的尺寸参数，获取经验蚀刻量，并确定蚀刻光圈的光圈半径r为所述经验蚀刻量；根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜；通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，其中，图形布尔运算后得到的结果为待蚀刻轮廓；其中，若所述轮廓段的轮廓类型为直线段，所述轮廓段的尺寸参数为所述直线段的起点s和终点e；所述根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜，包括：根据所述直线段的起点s和终点e，计算所述起点s和终点e之间的欧氏距离d，并计算所述起点s和终点e的中点O1，以及所述直线段与x轴的夹角θ；计算第一类型标定点，其中，所述第一类型标定点为：P0(‑d/2,‑r)，P1(d/2,‑r)，P2(d/2,r)，P3(‑d/2,r)，P4(‑d/2,0)和P5(d/2,0)；构建有向线段以P₅为圆心的有向圆弧有向线段和以P₄为圆心的有向圆弧组成的封闭曲线；以原点为中心，将所述封闭曲线旋转θ角度，并将旋转后的封闭曲线的中心平移到所述中点O1，平移后的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。