[发明专利]确定细节级别的图形处理设备和方法有效
| 申请号： | 201610836335.6 | 申请日： | 2016-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN107016716B | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 沈熙峻;权劝宅;权纯敏;金浩荣;郑圣勋 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G06T15/04 | 分类号： | G06T15/04 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 闫红玉;张川绪 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种确定细节级别的图形处理设备和方法。确定用于纹理化的细节级别(LOD)的方法，包括：获取关于包括在上块中的像素的纹理坐标数据；确定包括在上块中的四边形中的参考四边形；使用被确定的参考四边形和上块的纹理坐标，确定所述被确定的参考四边形与上块之间的相似性；响应于确定相似性的步骤包括确定所述被确定的参考四边形与上块相似，将包括在上块中的四边形中的剩余四边形的LOD确定为与所述被确定的参考四边形的LOD相同。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 细节 级别 图形 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种确定用于纹理化操作的细节级别LOD的方法，所述方法包括：获取关于包括在上块中的像素的纹理坐标数据；确定包括在上块中的四边形中的参考四边形；使用被确定的参考四边形和上块的纹理坐标，确定所述被确定的参考四边形与上块之间的相似性；响应于确定所述被确定的参考四边形与上块相似，将包括在上块中的四边形中的剩余四边形的LOD确定为与所述被确定的参考四边形的LOD相同。
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