[发明专利]一种微阵列用活性氨基修饰基片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610839386.4 申请日: 2016-09-22
公开(公告)号: CN106345544A 公开(公告)日: 2017-01-25
发明(设计)人: 周勇;申友锋 申请(专利权)人: 重庆高圣生物医药有限责任公司
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 400039 重庆市九龙坡*** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 发明涉及一种微阵列用活性氨基修饰基片及其制备方法,属于医学及生物学技术领域。本发明所提供的生物芯片基片是在玻璃基片表面进行氨基硅烷化化处理,在获得表面富含氨基的玻璃基片的基础上再进行多聚赖氨酸涂层,最终获得活性氨基修饰的玻璃基片。本发明提供的氨基基片,因使用浓硫酸和双氧水的最佳比例的预处理,解决了普通基片杂质较多的问题,氨基硅烷化后再进行多聚赖氨酸的涂层,形成了静电吸附和化学偶联的双重联合作用,显著提高了基片对探针的固定率、解决了基片灵敏度低和稳定性差的问题。因此,本发明提供的氨基基片是一种性能卓越、品质优良的生物芯片探针载体,可广泛应用于生物芯片的制备。
搜索关键词: 一种 阵列 活性 氨基 修饰 及其 制备 方法
【主权项】:
一种微阵列用活性氨基修饰基片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤(1),玻璃基片的预处理:将玻璃基片在浓硫酸与双氧水的混合溶液中浸泡过夜,采用去离子水将玻璃基片表面残留的浓硫酸和双氧水混合液清洗干净并甩干,得到预处理后的玻璃基片;步骤(2),玻璃基片的氨基硅烷化(引入活性氨基基团):将步骤(1)得到的预处理后的玻璃基片与3‑氨丙基二乙氧基硅烷溶液反应,引入活性氨基基团,然后用乙醇清洗残留的3‑氨丙基二乙氧基硅烷溶液,最后甩干,获得表面氨基硅烷化的玻璃基片;步骤(3),多聚赖氨酸涂层,将步骤(2)得到的氨基硅烷化的玻璃基片表面包被多聚赖氨酸,然后用双蒸水将其表面多余的未被包被多聚赖氨酸清洗干净,再吹干,冷却至室温,得到微阵列用活性氨基修饰基片。
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