[发明专利]一种锗晶片研磨废水中锗的回收方法在审
申请号: | 201610839787.X | 申请日: | 2016-09-21 |
公开(公告)号: | CN106367619A | 公开(公告)日: | 2017-02-01 |
发明(设计)人: | 李琴香;朱刘;王文杰;王晓玲;孙秋景 | 申请(专利权)人: | 广东先导稀材股份有限公司 |
主分类号: | C22B41/00 | 分类号: | C22B41/00;C22B7/00;C02F9/04 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 赵青朵 |
地址: | 511500 广东省清*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种锗晶片研磨废水中锗的回收方法,包括以下步骤A)在pH值为5~10的条件下,采用铁盐与废水中的锗元素进行共沉淀反应,过滤,得到锗精矿和滤液;B)滤液依次经过精密过滤和一级反渗透,得到第一淡水和第一浓水;C)第一浓水返回步骤A);第一淡水经过二级反渗透,得到第二淡水和第二浓水;D)第二浓水返回步骤B),第二淡水回收。本发明提供的方法工艺简单、耗时短、自动化程度高,所用的化学试剂易得,采用非常少的沉淀剂,即可得到较高的沉淀率和回收率,且所回收得到的锗精矿中锗的含量≥3%。经过膜设备处理后的淡水可回用。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶片 研磨 水中 回收 方法 | ||
【主权项】:
一种锗晶片研磨废水中锗的回收方法,其特征在于,包括以下步骤:A)在pH值为5~10的条件下,采用铁盐与废水中的锗元素进行共沉淀反应,过滤,得到锗精矿和滤液;B)滤液依次经过精密过滤和一级反渗透,得到第一淡水和第一浓水;C)第一浓水返回步骤A);第一淡水经过二级反渗透,得到第二淡水和第二浓水;D)第二浓水返回步骤B),第二淡水回收。
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