[发明专利]一种MEMS器件及其制备方法和电子装置在审
| 申请号： | 201610843999.5 | 申请日： | 2016-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN107857233A | 公开（公告）日： | 2018-03-30 |
| 发明（设计）人： | 张瑞朋;丁敬秀;张健 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所11336 | 代理人： | 高伟,冯永贞 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种MEMS器件及其制备方法和电子装置。所述方法包括提供MEMS衬底，在所述MEMS衬底上形成有振膜和背板，在所述振膜和所述背板之间形成有空腔；使用第一清洗试剂清洗所述空腔；将使用第一清洗试剂清洗后的MEMS器件放入表面张力小于所述第一清洗试剂的第二清洗试剂中进行清洗，以使所述空腔内的所述第一清洗试剂替换为所述第二清洗试剂；在经所述第二清洗试剂清洗的所述空腔内通入干燥气体，以排出所述第二清洗试剂并干燥所述MEMS器件。本发明的优点在于(1)提高MEMS器件的性能和良率。(2)提高MEMS器件的产能，每小时产出晶圆片数得到极大提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 mems 器件 及其 制备 方法 电子 装置 | ||
【主权项】：
一种MEMS器件的制备方法，其特征在于，所述方法包括：提供MEMS衬底，在所述MEMS衬底上形成有振膜和背板，在所述振膜和所述背板之间形成有空腔；使用第一清洗试剂清洗所述空腔；将使用第一清洗试剂清洗后的MEMS器件放入表面张力小于所述第一清洗试剂的第二清洗试剂中进行清洗，以使所述空腔内的所述第一清洗试剂替换为所述第二清洗试剂；在经所述第二清洗试剂清洗的所述空腔内通入干燥气体，以排出所述第二清洗试剂并干燥所述MEMS器件。
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