[发明专利]一种金属荫罩及其制备方法有效
申请号: | 201610844430.0 | 申请日: | 2016-09-22 |
公开(公告)号: | CN106350769B | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 潘仲光;陈霞玲;童圣智 | 申请(专利权)人: | 常州友机光显电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C25D1/10;C25D3/12 |
代理公司: | 北京太合九思知识产权代理有限公司 11610 | 代理人: | 刘戈 |
地址: | 213031 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种金属荫罩及其制备方法,所述方法包括:在100‑110℃下,以0.3‑0.4MPa的压力将感光膜贴覆在表面清洁平整的电铸基板上,形成具有感光层的电铸基板;以5‑30mj/cm2的曝光量,对所述感光层的预设区域进行曝光;将曝光后的具有感光层的电铸基板,进行显影、烘焙及浸洗处理,得到电铸阴极;使用所述电铸阴极进行电铸工艺,得到具有与所述预设区域图案匹配的金属荫罩。本发明实施例提供的金属荫罩及其制备方法,通过改变制膜的温度和压力增加感光膜在基板上的附着力,并通过优化曝光强度,实现在感光膜上制出微孔开口小至3μm的图形,从而制作得到开口尺寸在3‑40μm的金属荫罩。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种金属荫罩的制备方法,其特征在于,包括:在100‑110℃下,以0.3‑0.4MPa的压力将感光膜贴覆在表面清洁平整的电铸基板上,形成具有感光层的电铸基板;以5‑30mj/cm2的曝光量,对所述感光层的预设区域进行曝光;将曝光后的具有感光层的电铸基板,进行显影、烘焙及浸洗处理,得到电铸阴极;使用所述电铸阴极进行电铸工艺,所述电铸工艺以5‑25A/ft2的电流密度电铸18‑25min,其中以5‑10A/ft2的小电流慢镀3‑5min,然后增加电流密度至20‑25A/ft2镀15‑20min,得到具有与所述预设区域图案匹配的金属荫罩。
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