[发明专利]一种在铝基体上构建高精度极端润湿性图案的方法在审
| 申请号： | 201610846474.7 | 申请日： | 2016-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN106334663A | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | 宋金龙;杨晓龙;刘子艾;刘新;孙晶;赵丹阳 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | B05D5/00 | 分类号： | B05D5/00;C23C14/04;C23C14/48;C23C14/58;C23C26/00 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心21200 | 代理人： | 温福雪,李宝元 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明属于金属表面处理及光刻微加工领域，涉及一种在铝基体上构建高精度极端润湿性图案的方法。在铝基体超疏水表面上通过甩胶、光刻、显影和固化工艺使铝基体表面覆盖图案化的光刻胶，该光刻胶为正性光刻胶；对铝基体上未被光刻胶覆盖区域进行等离子体改性获得短期超亲水性；将等离子体改性后的铝基体置于沸水中浸泡10min以上，获得长期超亲水性；最后将铝基体浸入丙酮中10s以上去除表面光刻胶露出超疏水部分，即得到构建有高精度极端润湿性图案的铝基体。本发明设备及工艺简单，成本低廉，所构建的润湿性图案形状及尺寸精度高；所获得的超亲水图案具有较高的持久性，不易被破坏。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基体 构建 高精度 极端 润湿 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种在铝基体上构建高精度极端润湿性图案的方法，其特征在于，步骤如下：在铝基体超疏水表面上通过甩胶、光刻、显影和固化工艺使铝基体表面覆盖图案化的光刻胶，该光刻胶为正性光刻胶；对铝基体上未被光刻胶覆盖区域进行等离子体改性获得短期超亲水性；将等离子体改性后的铝基体置于沸水中浸泡10min以上，获得长期超亲水性；最后将铝基体浸入丙酮中10s以上去除表面光刻胶露出超疏水部分，即得到构建有高精度极端润湿性图案的铝基体。
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