[发明专利]一种等离子体处理器、移动环清洁维持系统及方法有效
| 申请号： | 201610849212.6 | 申请日： | 2016-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN107871648B | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 梁洁;涂乐义 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 潘朱慧 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种移动环洁净维持系统，可阻止在等离子处理过程中等离子处理器中的移动环底部和外侧壁表面沉积形成聚合物；所述的移动环洁净维持系统包含：超声波换能器，安装在移动环中；超声波发生器，其输出端连接所述的超声波换能器。其优点是：通过超声波发生器发出的高频震荡信号，通过换能器转换成高频机械振荡传播并均匀辐射到移动环的固体介质中，实现移动环表面及缝隙中污染物迅速剥离，从而达到表面净化的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理器 移动 清洁 维持 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种移动环洁净维持系统，用于阻止在等离子处理过程中等离子处理器中的移动环（1）底部和外侧壁表面沉积形成聚合物（3），所述的等离子处理器包括一反应腔（7），反应腔（7）内包括一个用于放置待处理晶圆的基座（6），基座（6）上方包括反应气体进气装置用于输入反应气体到所述基座（6）上方，在等离子处理过程中所述反应气体在基座（6）上方被电离形成等离子体，移动环（1）位于反应腔（7）内并围绕所述等离子体，其特征在于，所述的移动环洁净维持系统包含：超声波换能器（2），其埋设在移动环（1）中，使超声波换能器（2）不暴露于等离子体；超声波发生器（4），其输出端连接所述的超声波换能器（2）。
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