[发明专利]基板处理方法和基板处理装置

摘要

本发明提供一种能够更切实地抑制显影的进行量由于基板上的位置的不同而产生偏差的基板处理方法和基板处理装置。基板处理方法包括：在使晶圆以第一转速旋转、使接液面与晶圆的表面相对的状态下，从喷出口向晶圆的表面供给显影液，一边使接液面与显影液接触一边使喷嘴移动，从而在晶圆的表面上形成显影液的液膜；在液膜形成在晶圆的表面上之后，在来自喷出口的显影液的供给停止了的状态下，以比第一转速低的第二转速使晶圆旋转；在以第二转速使晶圆旋转之后，以比第一转速高的第三转速使晶圆旋转；在以第三转速使晶圆旋转之后，使晶圆的转速为第二转速以下，从而在晶圆的表面上保持液膜。

主权项

一种基板处理方法，其包括：在使基板以第一转速旋转、使在喷嘴的喷出口的周围形成的接液面与所述基板的表面相对的状态下，从所述喷出口向所述基板的表面供给显影液，一边使所述接液面与所述显影液接触一边使所述喷嘴移动，从而在所述基板的表面上形成所述显影液的液膜；在所述液膜形成在所述基板的表面之后，在来自所述喷出口的所述显影液的供给停止了的状态下，以比所述第一转速低的第二转速使所述基板旋转；在使所述基板以所述第二转速旋转之后，以比所述第一转速高的第三转速使所述基板旋转；在以所述第三转速使所述基板旋转之后，使所述基板的转速为所述第二转速以下，从而在所述基板的表面上保持所述液膜。