[发明专利]一种磁控溅射靶挡板机构有效
| 申请号： | 201610850298.4 | 申请日： | 2016-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN106435498B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 佘鹏程;彭立波;龚俊;范江华 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 周长清;徐好 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控溅射靶挡板机构，包括挡板，还包括用于驱动挡板旋转的驱动组件、挡板旋转时引导挡板升降的引导组件及用于安装引导组件的支架，所述引导组件包括滚轮、弹性件及用于引导滚轮升降的引导板，所述滚轮和所述弹性件相对布置于所述挡板两侧，所述滚轮安装于所述挡板上，所述引导板固设于所述支架上，所述弹性件抵设于所述挡板和所述支架之间。本发明具有结构简单可靠、能够与溅射靶紧密贴合、对溅射靶形成有效保护、减少靶材之间的交叉污染、提高沉膜质量等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 挡板 机构 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射靶挡板机构，包括挡板（1），其特征在于：还包括用于驱动挡板（1）旋转的驱动组件（2）、挡板（1）旋转时引导挡板（1）升降的引导组件（3）及用于安装引导组件（3）的支架（4），所述挡板（1）安装于驱动组件（2）上并可相对驱动组件（2）上下运动，所述引导组件（3）包括滚轮（31）、弹性件（32）及用于引导滚轮（31）升降的引导板（33），所述滚轮（31）和所述弹性件（32）相对布置于所述挡板（1）两侧，所述滚轮（31）安装于所述挡板（1）上，所述引导板（33）固设于所述支架（4）上，所述弹性件（32）抵设于所述挡板（1）和所述支架（4）之间。
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