[发明专利]显影处理方法和显影处理装置有效
| 申请号： | 201610851529.3 | 申请日： | 2016-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN107024839B | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 久保田稔 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供提高显影处理后的面内的线宽度的均匀性的显影处理方法和显影处理装置。对晶片(W)上供给显影液，使将规定的图案曝光了的晶片(W)上的抗蚀剂膜(R)显影时，将纯水(P)供给到晶片(W)的中央部而形成纯水积液，接着一边使稀释用的显影液供给喷嘴(158)的下端面(158a)与上述纯水积液接触而从显影液供给喷嘴(158)对纯水积液供给显影液，一边使显影液供给喷嘴(158)在通过晶片(W)的中心的径向上移动而在晶片(W)上形成稀释显影液的积液。之后，使晶片(W)旋转而使稀释显影液的积液在基板整个面上扩散进行预湿，之后从外周部对中心部供给显影液进行显影处理。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种显影处理方法，其对基板上供给显影液，使将规定的图案曝光了的基板上的抗蚀剂膜显影，所述显影处理方法的特征在于，包括：稀释显影液的积液形成步骤，对基板的中央部供给纯水而形成纯水积液，接着一边使喷嘴的触液面接触所述纯水积液而从该喷嘴对纯水积液供给显影液，一边使该喷嘴在通过基板中心的径向上移动而在基板上形成稀释显影液的积液；之后使基板旋转而使所述稀释显影液的积液在基板整个面上扩散的扩散步骤；和之后对基板供给显影液而使基板显影的显影步骤。
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