[发明专利]成像光路装置与成像光路装置的检测控制方法有效
| 申请号： | 201610852346.3 | 申请日： | 2016-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN107870522B | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 王健 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种成像光路装置与成像光路装置的检测控制方法，用于光刻系统中，该成像光路装置包括照明部分、掩模台、物镜组件，所述照明部分产生的光源依次经所述掩模台上的掩模和物镜组件照至硅片表面；其特征在于：还包括：所述物面测量单元，设置在所述物镜组件的物面，用以于所述掩模台上测得不同场点的物面光瞳信息；所述像面测量单元，设置在所述物镜组件的像面，用以于硅片表面处测得不同场点的像面光瞳信息；根据上述物面光瞳信息和像面光瞳信息获得所述物镜组件在不同场点的透过率分布情况，通过所述透过率分布情况调整所述照明部分中照明光瞳的椭圆度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 装置 检测 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种能够检测物镜透过率分布情况的成像光路装置，用于光刻系统中，包括照明部分、掩模台、物镜组件，所述照明部分产生的光源依次经所述掩模台上的掩模和物镜组件照至硅片表面；其特征在于：还包括：物面测量单元，设置在所述物镜组件的物面，用以于所述掩模台上测得不同场点的物面光瞳信息；像面测量单元，设置在所述物镜组件的像面，用以于硅片表面处测得不同场点的像面光瞳信息；根据上述物面光瞳信息和像面光瞳信息获得所述物镜组件在不同场点的透过率分布情况，通过所述透过率分布情况调整所述照明部分中照明光瞳的椭圆度分布。
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